Аппарат лазерной очистки OVRC 3000 с чиллером водяного охлаждения CFLBm-3000

Комплекс лазерной очистки SEKIRUS OVRC 3000 представляет собой модульную систему, основной элемент которой – лазерный источник SEKIRUS мощностью 3кВт. Ключевым элементом является чиллер CFLBm-3000, обеспечивающий эффективное охлаждение всех компонентов системы.

Внутри корпуса располагается специальная полка, на которой установлен лазерный источник. Над источником размещается модуль электрики, включающий в себя контроллер сварки и чиллера, а также блоки питания. Модульное исполнение обеспечивает удобство обслуживания и возможность модернизации оборудования.

Особенности

1. Модульное исполнение;

2. Чиллер водяного охлаждения собственного производства (российский контроллер);

• Увеличенный рабочий температурный диапазон;

• Наличие датчиков температуры конденсации, переохлаждения, в канале лазерного источника и на лазерной голове;

• Наличие датчиков протока воды на лазерный источник и лазерную голову;

• Возможность ручного управления;

• Защита по напряжению сети (РНПП).

3. Корпус оснащен колесами для удобного перемещения аппарата по цеху;

4. Имеется возможность установки российского контроллера сварки;

5. Возможность кастомизации корпуса с логотипом вашей компании и подсветкой.

Характеристики

Оптические элементы ручного манипулятора

Применение

Лазерная очистка SEKIRUS OVRC 3000 предназначена для бесконтактной очистки металлических и некоторых неметаллических поверхностей от окалины, нагара, органических загрязнений, нефтепродуктов и ржавчины.